半导体及集成电路产业扶持-支持产品研发流片
来源：
南海区科学技术局
申报时间：
-
发文时间：
新兴产业
政策简读
政策原文
产业类别
集成电路,新材料
扶持标准
半导体企业用于研发的多项目晶圆（MPW），可享受最高不超过 MPW 流片与掩模版制作直接费用 80％、其他类工程片试流片与掩模版制作（Full Mask）加工费 30%的补助。对硅基工艺线宽小于 65nm（含）、化合物与宽禁带半导体等工艺，在以上标准基础上分别提高 10 个百分点，即 MPW 流片与掩模版制作直接费用按照不高于 90%进行资助，其他类工程片试流片与掩模版制作按照不高于其加工费 40%进行资助。每个企业年度补助总额不超过 500 万元。补贴年限自首次享受起连续计算，总年限不超过 3 年。
申报材料
申报指南待发布
政策简读
政策原文
政策文件
佛山市南海区人民政府关于印发佛山市南海区半导体及集成电路产业扶持办法的通知
http://www.nanhai.gov.cn/gkmlpt/content/5/5379/post_5379821.html#1975
