集成电路产业发展专项-首轮掩模制版/工程流片费用支持
来源：
常州市工业和信息化局
申报时间：
-
发文时间：
新兴产业
政策简读
政策原文
产业类别
集成电路
扶持标准
对符合条件的企业，在本地生产企业掩模流片的，最高按首轮流片（含知识产权（IP）授权、掩模制版）费用给予不超过60%的支持，非本地生产企业掩模流片的，最高按照产品首轮流片费用给予不超过50%的支持。普通产品支持总额不超过300万元，工艺制程达到28nm及以下产品支持总额不超过500万元，工艺制程达到14nm及以下产品支持总额不超过800万元。化合物半导体产品按上述工艺制程支持，支持总额在上述标准上额外增加10%。单个企业每年支持总额最高不超过2000万元。
政策中规定的“产品”是指经过掩模板（Full Mask或MPW）流片，达到设计要求后，可以提供给集成电路系统整机厂商进行芯片性能测试及示范应用的非量产用芯片产品。
政策中规定的“首轮流片”是指设计企业就本“产品”，首次与制造企业或第三方服务平台签订流片合同，进行流片的过程。原则上，单个产品首轮流片用8英寸（含）以下wafer数量不超过15片，12英寸wafer数量不超过12片。
申报材料
1. 支持首轮掩模制板/工程流片费用项目申报表（附件2-3）；
2. 流片加工业务统计表（附件2-3-1）；
3. 与集成电路制造企业签订的工程流片加工合同、发票及付款凭证等相关材料复印件；通过第三方服务平台委托流片，需提供与服务平台之间的流片加工合同、发票、付款凭证等相关材料复印件；
4. 芯片版图缩略图；
5. MPW或工程流片产品的情况说明（产品主要功能及用途、技术指标及先进性、与单位其他相关产品的差异说明等）；
6. 反映申报单位自主创新能力的证明材料（集成电路芯片设计专利、布图设计登记、软件著作权、企业技术中心等）复印件；
7. 供需双方无关联关系承诺书（附件2-3-2）。
政策简读
政策原文
政策文件
关于组织申报2021年常州市集成电路产业发展专项资金项目的通知
http://www.changzhou.gov.cn/gi_news/725162072217219
