分子束外延是现代半导体工业的核心技术之一，它能够精确控制材料生长过程，实现高质量、高纯度和高可靠性的半导体材料生长。在分子束外延设备中，束源炉是其中的核心部件，对于材料生长具有至关重要的作用。液相束源是一种针对分子束外延的优秀选择，它具有更广泛的原料选择、更高的材料利用率、更准确的生长条件控制以及更高效的生长速率等优点，为半导体产业未来的发展提供了强大支持。因此，本项目提供了一种非暴露开腔式加注、重复性好、束流稳定的液相束源。通过这种液相束源的应用，可以进一步推动半导体产业的发展。