集成电路设计企业流片补贴项目
扶持标准
用于研发的集成电路企业MPW,按照不高于MPW直接费用70%进行资助,用于研发的集成电路企业工程片试流片按照不高于其加工费30%进行资助。针对硅CMOS工艺最小线宽≤55nm、GaAs MMIC工艺最小线宽≤250nm等两类先进工艺,在以上标准基础上分别提高10个百分点,即MPW直接费用按照不高于80%进行资助,工程片试流片按照不高于其加工费40%进行资助。
申报材料
1、厦门集成电路设计流片补贴资金申请表(包括MPW、工程批);
2、申请补贴资金明细表;
3、企业基本情况;
4、产品研发说明;
5、芯片版图缩略图;
6、流片加工发票;
7、流片合同复印件;
8、付款凭证(境外加工的需提供报关单或委外加工证明);
9、正版软件使用证明;
10、2017年度财务审计报告及2018年6月财务报表;
11、企业营业执照、税务登记证或“三证合一”营业执照;
12、产品外观照片;
以上材料按照申请表、申请补贴资金明细表,企业基本情况的顺序装订,每项材料用彩页隔开,纸皮胶装,材料一律用 A4 纸打印或复印清楚,加盖申报企业公章,一式一份(正本)。
政策文件
关于2018年上半年厦门集成电路设计企业流片补贴项目申报的通知
http://sti.xm.gov.cn/xxgk/tzgg/201810/t20181012_2135631.htm