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李教授

教授 江苏无锡市
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科研专业方向

研究领域:

电工、微电子和光电子新材料制备与应用技术

研究方向:

微电子技术

科研重点分布
近年科研重点
2006
硅-硅直接键合 本征氧化物 界面氧化层模型 杂质分布 MEMS 薄膜 材料参数 在线测试
2010
(110)衬底 凸角补偿 拓扑结构 通用方法
科研产出增长曲线
历年科研产出
学科论文分布
无线电电子学:6 仪器仪表工业:1 金属学及金属工艺:1 工业通用技术及设备:1 材料科学:1
总数: 9
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  • 产学研合作
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  • 荣誉&成就
  • 科研成果
产学研合作
合作信息
合作单位 合作论文数量
兰州大学微电子研究所 3
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基金课题
论文标题 基金名称
硅-硅键合界面氧化层模型与杂质分布的模拟 国家863计划项目
硅-硅键合界面氧化层模型与杂质分布的模拟 国家杰出青年科学基金项目
体硅湿法腐蚀中(110)衬底上的凸角补偿方法 国家高技术研究发展计划
MEMS薄膜材料参数在线测试方法与技术 国家高技术研究发展计划资助项目
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荣誉&成就

在微电子技术领域从事科研与教学工作多年,先后开设与讲授本科、硕士研究生与博士研究生课程“集成电路CAD技术”、“模拟集成电路分析与设计”、“集成电路计算机辅助设计”、“专用集成电路”、“VLSI设计基础”、“VLSI系统设计”、“计算微电子学”等。出版教材《VLSI设计基础》与《微电子器件设计》,翻译英文教材《集成电路版图基础》、参加翻译专著《微系统设计》,编写本科课程讲义《集成电路CAD技术》、《专用集成电路及其结构设计》等4本,实验指导讲义1本。主持教学改革项目3项,参加教改项目多项,获得多项校教学奖励。
  主持或参加多项国家与部委科研项目研究,其中,国家863项目4项、自然基金项目1项、武器装备预研基金项目1项、教育部重大项目1项、教育部重点项目1项,总装备部研究项目2项。还主持或参加完成多项与企业合作或委托研究项目。为主申请并授权或受理国家发明专利“电子地理信息定位方法与装置”、“纵向多面栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管及其制造方法”等4项,授权实用新型专利3项,参加申请并受理国家发明专利多项。发表的研究论文被SCI/EI收录十多篇,2项开发产品上市销售与推广应用

科研成果
  • 期刊论文
  • 技术成果
  • 专利

体硅湿法腐蚀中(110)衬底上的凸角补偿方法

硅-硅键合界面氧化层模型与杂质分布的模拟

硅-硅键合界面氧化层模型与杂质分布的模拟

元胞自动机方法模拟硅的各向异性腐蚀研究

硅各向异性腐蚀模拟的3-D连续CA模型研究

MEMS薄膜材料参数在线测试方法与技术

用3D动态元胞自动机模型模拟硅的各向异性腐蚀过程

硅/硅直接键合的界面应力

系统级模拟的MEMS器件宏模型

宽量程MEMS风速风向传感器设计与制造关键技术及应用

高性能MEMS器件设计与制造关键技术及应用

高可靠性MEMS压力传感器设计与制造关键技术及应用

硅微机械制造的工艺模型、在线测试结构及其关键技术与应用

多晶硅电热微执行器模型、制备与表征

硅整片集成设计中容错技术的研究

一种导电薄膜材料残余应力的在线测量方法及测量装置

一种多晶硅薄膜残余应力的测试结构及其测试方法

硅材料顶层硅杨氏模量和残余应力的测试结构及测试方法

绝缘衬底上的硅材料顶硅层杨氏模量的测试结构

绝缘衬底上的硅材料顶硅层杨氏模量的测试结构

一种在光刻胶刻蚀过程中表面演化模拟的哈希快速推进方法

一种电磁驱动调变齿间隙的微机电梳齿机构

一种静电力调变齿间隙的微机电梳齿机构

一种电热驱动调变齿间隙的微机电梳齿机构

一种光刻胶三维刻蚀过程模拟的改进快速推进方法

厚胶介质补偿紫外光斜入射光刻工艺的光强分布模拟方法

厚胶介质补偿紫外光垂直光刻工艺三维光强分布模拟方法

厚胶紫外光斜入射背面光刻工艺的光强分布模拟方法

厚光刻胶背面斜入射光刻工艺的三维光强分布模拟方法

表面加工多晶硅薄膜热膨胀系数的电测试方法

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