科研专业方向
研究领域：
新型功能高分子材料的制备及应用技术
研究方向：
材料
杨博士
云南
科研重点分布
近年科研重点
2009
缓冲层 周期结构 颗粒尺寸 红外吸收科研产出增长曲线
历年科研产出
学科论文分布
物理学：13
无线电电子学：9
工业通用技术及设备：9
化学：4
材料科学：4
无机化工：1
药学：1
金属学及金属工艺：1
总数:
28
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- 产学研合作
- 基金课题
- 荣誉&成就
- 科研成果
产学研合作
合作信息
| 合作单位 | 合作论文数量 |
|---|---|
| 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室 | 3 |
| 光微纳米材料与技术省重点实验室 | 1 |
| 浙江理工大学理学院物理系 | 1 |
| 光电材料与器件中心 | 1 |
| 多伦多大学材料科学与工程系 | 1 |
| 北京信息工程学院传感技术研究中心 | 1 |
| 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 | 1 |
| 天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室 | 1 |
| 南京大学固体微结构国家重点实验室 | 1 |
| 昆明物理研究所基础研发中心 | 1 |
| 斯威本科技大学平动原子材料中心 | 1 |
| 上海电力大学电子与信息工程学院 | 1 |
| 云南曲靖地震局 | 1 |
| 云南省送变电公司 | 1 |
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基金课题
| 论文标题 | 基金名称 |
|---|---|
| 绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET电学特性模拟分析 | 国家自然科学基金 |
| 金属Ta缓冲层上生长微晶Si薄膜的结晶性研究 | 国家自然科学基金 |
| 缓冲层厚度对Ge/Si多层膜的影响 | 国家自然科学基金资助项目 |
| Ta上生长的硅薄膜退火的微晶化研究 | 国家自然科学基金资助项目 |
| 溅射Si/Ge多层膜及其发光誊性研究 | 国家自然科学基金资助项目 |
| 溅射Ar+能量对离子束溅射制备Ge薄膜结晶性的影响 | 国家自然科学基金资助项目 |
| Ge/Si纳米多层膜的埋层调制结晶研究 | 国家自然科学基金资助项目 |
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荣誉&成就
暂无荣誉成就信息
科研成果
- 期刊论文
- 技术成果
- 专利
纳米盘光子晶体增强Si+/Ni+离子共注入SOI的光致发光（英文）
耦合锗量子点中空穴态对称特性研究
半导体量子点集成有机发光二极管的光光转换器进展
自填隙原子对Si晶体性能影响的研究
Ge在Si（100）-2×1表面化学吸附的第一性原理研究
In2Se3薄膜生长及结晶择优取向的影响因素研究
缓冲层厚度对Ge/Si多层膜的影响
氧非正分La0.9Ba0.1MnO3-δ/SrTiO3:Nbp-n异质结的整流特性研究
插入生长AlGaAs薄膜对InAs量子点探测器性能的影响
应力导致InAs/In0.15Ga0.85As量子点结构中In0.15Ga0.85As阱层的合金分解效应研究
磁控溅射生长SiC薄膜的拉曼光谱研究
一步燃烧法制备铝酸盐长余辉蓄发光材料的研究
离子束沉积技术室温生长Si/Ge薄膜的晶化研究
SiC材料制备工艺研究进展
Raman测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究
Si/Ge纳米材料的热稳定性研究
抗肿瘤抗生素Tedanolide的全合成研究
非晶态合金激波纳米晶化和激波致金属晶粒细化的研究
应用低价硫化铝法生成铝膜的研究
超高真空磁控溅射Co/Si多层膜的X射线衍射分析
Co/Si多层膜的模型结构研究
绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET电学特性模拟分析
金属Ta缓冲层上生长微晶Si薄膜的结晶性研究
Ta上生长的硅薄膜退火的微晶化研究
溅射Si/Ge多层膜及其发光誊性研究
溅射Ar+能量对离子束溅射制备Ge薄膜结晶性的影响
Ge/Si纳米多层膜的埋层调制结晶研究
溅射气压对Si/Ge多层膜结构光学常数的影响
Si基纳米光电子材料制备科学与性能研究
新型光电子探测材料及应用
Si基多层膜材料的理论和实验研究
一种编译器协助的强化学习多核任务分配算法
一种新型硅-有机杂化太阳能电池及其制备方法
一种新型硅-有机杂化太阳能电池及其制备方法
一种非密排有序聚苯乙烯纳米球模板的制备方法
硅碳薄膜负极材料及其制备方法
热处理工艺制备碳硅负极材料的方法
一种多层及大面积石墨烯生长用石英舟
基于离子束溅射技术制备尺寸均匀、高密度MnGe量子点
一种基于磁控溅射技术联合退火工艺制备金属复合电极的方法
一种基于金属辅助化学刻蚀技术制备硅纳米线阵列的方法
一种Si自离子注入硅基材料改善发光性能的方法
一种采用向改性Si薄膜引入辅助性离子提高光学性能的方法
Si基Ge掺杂石墨烯复合材料的制备方法
一种基于离子束刻蚀制备有序小尺寸硅纳米线阵列的方法
一种Si自离子注入硅基材料改善发光性能的方法
一种高温石墨烯基底上直接生长Ge量子点的方法
一种快速退火制备Al-Si+欧姆接触的方法
一种离子束溅射技术制备高结晶性Ge/Si多层膜的方法
一种温控表显温度与材料生长温度间偏差的校订方法
一种高效近红外发光的低维锗硅量子材料及其制备方法
磁控溅射联合快速退火技术制备Ge/Si量子点
一种Ge量子点的制备方法及其应用
一种能实现近红外到可见光转换的光上转换器件及其制备方法
硅基底上溅射制备有序锗量子点的方法
磁控溅射联合快速退火技术制备Ge/Si量子点
一种能实现近红外到可见光转换的光上转换器件及其制备方法
一种半导体量子点激光器及其制备方法
一种包含薄膜结构的LED用发光体
一种Ge量子点的制备方法及其应用
转印倒置模板法制备有序锗纳米点阵
磁控溅射技术制备硅基锗量子点的方法
磁控溅射技术制备硅基锗量子点的方法
周期应力调制低温缓冲层硅基锗薄膜制备方法
催化氮化合成高α相氮化硅粉体的新方法
一种基于自离子注入SOI材料的近红外室温发光器件
用Si+自注入制备室温下硅晶体D1线发光材料的方法
一种基于自离子注入SOI材料的近红外室温发光器件
缓冲层填埋断续生长尺寸高均匀单层Ge量子点的方法
用离子束溅射技术生长高密度细小自组织Ge量子点的方法
低生长束流下离子束溅射技术自组织生长Ge量子点的方法
低温双离子束溅射Ge/Si多层膜自组织Ge量子点的制备方法
改性红外探测材料-非晶SiGe薄膜的制备方法
在非晶体材料上磁控溅射锗晶体薄膜的方法
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